核心观点
从长期看，我们认为通过收购与并购，广纳人才，增强自身研发实力是国内光掩模公司发展的必要途径，在面板与半导体产能向中国大陆转移的背景下，把握自身的地缘性优势，追赶海外厂商步伐。
摘要
光掩模，即光刻掩模版，又称光罩掩模版等，是微电子制造过程中的图形转移母版，是平板显示、半导体、触控、电路板等行业生产制造过程中重要的关键材料。掩模版的作用是将设计者的电路图形通过曝光的方式转移到下游行业的基板或晶圆上，从而实现批量化生产。作为光刻复制图形的基准和蓝本，掩模版是连接工业设计和工艺制造的关键，掩模版的精度和质量水平会直接影响最终下游制品的优品率。
目前国内的光掩模产业链处于较落后位置。1）上游：掩模版行业上游设备、原材料主要依赖国外进口；2）中游：掩模版制造行业市场份额被日韩等国际竞争对手占据，中国大陆企业仅能占据较小的市场份额，竞争力受到一定限制；3）下游：下游需求的增长驱动了光掩模行业的发展。
光掩模全球市场规模逐年增长。从2012到2020年，全球光掩模市场规模逐年增长。根据SEMI数据，到2022年，光掩模市场达到52亿美元。
随着人们消费的不断升级，屏幕的大尺寸化已成为平板显示持续的演进方向。受终端应用趋向大尺寸化的发展趋势影响，面板世代数不断演进，从1988年的第1代（G1）面板发展到2018年的第11代（G11）面板，掩模版的世代也相应演进。
掩模版行业呈现逆面板周期属性。我们发现，2020-2021年是最近的一次面板行业上行周期，而期间面板掩模版的销售额比2018-2019年有所下降。在面板下行周期，掩模版公司有较好的收入增长，是因为平板显示厂商在产能利用率下降的情况下为保持竞争力，可能会加大新品开发的力度，反而带动了平板显示用掩模版需求的大幅增长。
半导体光掩模市场被美日企业垄断，国产替代需求旺盛。根据SEMI的统计数据，2019年在半导体芯片掩模版市场，英特尔、三星、台积电等晶圆厂自行配套的掩模版工厂占据65%的份额，其它的掩模版主要被美国Photronics、日本DNP以及日本Toppan三家公司所垄断。与此同时，掩模版基材及其石英基板、光刻胶、光学膜等关材料同样被国外企业垄断。
通过复盘海外龙头的发展路径，我们发现海外公司有以下共同点：1）在行业内深耕多年，有充分的know-how经验累积；2）在发展中，不断收购与并购光掩模相关团队与公司，加强技术实力；3）都在21世纪初在亚洲与中国大陆建立光掩模公司与工厂，随着面板与半导体产能不断向中国大陆转移，充分受益。
从长期看，我们认为通过收购与并购，广纳人才，增强自身研发实力是国内光掩模公司发展的必要途径，在面板与半导体产能向中国大陆转移的背景下，把握自身的地缘性优势，追赶海外厂商步伐。
建议关注：
（1）清溢光电：规模最大国产光掩模供应商之一，客户拓展实现突破
（2）路维光电：面板G11代线领跑，掌握光掩模制造核心技术
（3）龙图光罩：领先的半导体掩模版厂商，工艺节点已覆盖主流需求
（4）无锡迪思：华润微旗下光掩模制造企业，技术领先
（5）豪雅光学：与京东方合资设立中国光掩模子公司，空间有望成长
风险提示：国际局势变化、研发成果不及预期、下游需求不及预期、客户认证进度不及预期。
注：本文来自天风证券发布的《天风·电子 | 光掩模：高壁垒材料，国产化率低，下游新应用打开成长新空间》，报告分析师：潘暕 S1110517070005
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