中国光刻胶领域实现重大突破,首次合成高精度微观三维全景照片,分辨率优于5nm 中国光刻胶领域取得重大突破,成功合成分辨率优于5nm的微观三维全景照片,这一创新成果将为微电子制造领域带来革命性变革,有望推动集成电路制造技术的进一步提升,此次突破不仅展示了中国在光刻胶技术领域的实力,也为未来相关领域的发展奠定了坚实基础。...