中芯国际成功测试首款国产DUV光刻机，迈向5nm生产时代！

中芯国际成功测试首款国产深紫外（DUV）光刻机，具备生产5nm芯片的能力，这一重要突破标志着中国在半导体制造领域取得显著进展，为自主研发和生产更先进的芯片奠定了基础，该光刻机的测试成功将促进国内半导体产业的发展，有望提升中国在全球半导体竞争中的地位。

9月17日消息，据报道，中芯国际正在测试由上海初创公司宇量昇生产的深紫外线（DUV）光刻机，正测试的光刻机采用浸没式技术，类似于ASML所采用的技术。

过去，中芯国际高度依赖从荷兰半导体设备大厂ASML进口的DUV，但是近年来由于美国的出口管制，只能获得较旧设备。

知情人士透露，中芯国际正在测试一台28纳米的DUV设备，并利用多重曝光来生产7纳米芯片。

据透露，中芯国际试用的这类设备也能被推向极限以生产5纳米处理器，但良率会偏低，无法再进一步制造更先进的产品。

报道称，如果能够量产先进的DUV光刻机，这将是中国大陆突破美国芯片出口管制的重大胜利，不仅能减少对西方技术的依赖，还能提升先进AI处理器的产能。

还有分析师表示：如果测试成功，这将是中国企业的重要一步，未来可在此基础上推进更先进的设备。